| 型號： | 非標定制 | 規格： | 185nm,254nm,172nm |
| 商標： | Tobey | 包裝： | 紙箱 |
| 產量： | 1000000 |
紫外線光清洗燈，UV清洗燈基本介紹
光清洗制程:
使用UV是於1980年代初將光洗凈法實用化，一直到90年代以改質為目的被廣泛的應用。
由UV而產生之氧化反應，其效果依被處理物之種類而定分為洗凈和改質兩大項
而光處理法的基本原理UV是擁有殺菌能量的一種電磁波也是屬於光的一種，其波長領域極廣，
100mm ~400mm為紫外線放射范圍，屬於UV-C范圍，因其波長短UV能量高，其值和很多有機物之化學結合之能量值相近，易起反應生成各種作用及效果，其中具代表的作用就是洗凈.
改質對塑料玻璃陶瓷或是耐蝕性佳之金屬而言有顯著的效果
紫外線光清洗燈，UV清洗燈性能特點二、紫外光清洗的特點：
1、是一種無接觸方式，可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。
2、可 清除物體表面的碳和有機污染物。
3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產品的高可靠性和高成品率。
5、產品表面清洗處理的均勻度一致。
6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。
紫外線光清洗燈，UV清洗燈技術參數| 型號 （U,H） | 管徑 （D） | 管壓 (V) | 電流 (mA) | 功率 (W) | 安裝長度 (ｍｍ) | 弧長 （ｍｍ） | 備注 |
| SVR40U | 17.5 | 95±5 | 450 | 40 | 270 | 200 | |
| SVR70U | 17.5 | 100±5 | 800 | 70 | 370 | 300 | |
| SVR90U | 17.5 | 130±5 | 800 | 90 | 530 | 455 | |
| SVR110U | 17.5 | 130±5 | 900 | 110 | 640 | 565 | |
| SVR160U | 17.5 | 150±5 | 1000-1200 | 160 | 780 | 705 | |
| SVR200U | 17.5 | 130±5 | 1200-1500 | 200 | 820 | 755 |
主要在液晶顯示器件、半導體矽晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、矽晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(紫外光表面質變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對於改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層， 涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用於納米技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表面性質改變。 STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設備相當雷同，差別在於制造工藝要求的不同。隨著線路的精細化及產品的彩色比，LCD產業對制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設備能力不斷地精進，才能提高生產的質量與效率。
